مشخصات پژوهش

عنوان	بررسی خواص ساختاری و اپتیکی لایههای نازک اکسید ایندیم قلع
نوع پژوهش	مقاله چاپ‌شده در مجلات علمی
کلیدواژه‌ها	اکسید ایندیم قلع، لایههای نازک، بازتاب سنجی اشعه ایکس
چکیده	در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیم قلع ( )ITOبهروش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی زیرلایههای شیشهای با ضخامتهای اسمی 375 ،355 ،05و 005نانومتر، با نرخ انباشت ثابت 5/35نانومتر بر ثانیه لایهنشانی شدهاند. دمای زیرلایهها در خلال لایه نشانی در دمای 455درجه سانتیگراد ثابت نگه داشته شد. از تکنیکهای پراش پرتو ایکس ( )XRDو بازتاب سنجی اشعه ایکس ( )XRRبرای آنالیز ساختاری لایههای نازک استفاده شده است. خواص اپتیکی لایهها با استفاده از طیف سنجی فرابنفش-مرئی در محدوده ( 135-855نانومتر) بررسی شد. همچنین آنالیز عنصری ماده با استفاده از دستگاه انرژی پراکندگی اشعه ایکس ()EDS انجام شد. برای آنالیز دادهها از نرم افزارهای GENX ،MATLABو XPOWDERاستفاده شدند. سپس ضخامت واقعی ( ،)nmچگالی الکترونی متوسط ( )e/Å3و ناهمواری ( )nmلایههای نازک ITOبهدست آمدند. مقادیر گاف انرژی برای ضخامتهای 375 ،355 ،05و nm 005بهترتیب 1/73 ،1/08 ، 1/47و eV 1/87بهدست آمدند. نتایج نشان میدهد که با افزایش ضخامت لایههای نازک اندازه متوسط بلورکها رشد کرده، تراگسیل اپتیکی، جذب و گاف انرژی لایههای نازک بهترتیب کاهش، افزایش، افزایش مییابد
پژوهشگران	احسان پارسیان پور (نفر اول)، مجتبی روستایی (نفر دوم)، جهانگیر جعفری رحمان (نفر سوم)، بهرام سهرابی (نفر چهارم)، فریدون سموات (نفر پنجم)