مشخصات پژوهش

عنوان	بررسی متغیر چرخه کار بر مکانیزیم جوانه زنی و رشد پوشش نانوساختار TiAlN ایجاد شده با استفاده از روش پالسی جریان مستقیم PACVD
نوع پژوهش	مقاله ارائه شده کنفرانسی
کلیدواژه‌ها	پوشش نانوساختار TiAlN، درصد چرخه کار، مکانیزیم جوانه زنی و رشد، PACVD.
چکیده	هدف از این مقاله، بررسی ارتباط درصد چرخه کار به عنوان یکی از متغیرهای پلاسما بر روی مکانیزیم جوانه زنی رو رشد پوشش نانوساختار نیترید تیتانیوم-آلومینیوم (TiAlN) با استفاده از روش رسوب گذاری شیمیایی از فاز بخار به کمک پلاسما (PACVD) در سیستم جریان مستقیم پالسی می باشد. برای بررسی متغیر درصد چرخه کار، پوشش ها در درصدهای 30، 40 و 50 درصد چرخه کار و در دمای لایه نشانی 470 درجه سانتی گراد، فرکانس 10 کیلوهرتز و فشار 3 میلی بار اعمال شدند. نتایج بدست آمده از آزمون SEM، XRD و EDS دلالت دارد که امکان جوانه زنی TiAlN به دو صورت همگن و غیرهمگن و رشد به صورت جزیره ای-لایه ای وجود دارد. همچنین با توجه به اینکه جوانه زنی و رشد در زمان های خاموشی اتفاق می افتد، با کاهش درصد چرخه کار، سرعت لایه نشانی و تعداد جوانه های جدید افزایش می یابد. در نتیجه با کاهش درصد چرخه کار از 50 تا 30، سرعت لایه نشانی و اندازه دانه بلوری به ترتیب به میزان 50 درصد افزایش و کاهش می یابد.
پژوهشگران	حسن علم خواه (نفر اول)، امیر عبداله زاده (نفر دوم)، فرزاد محبوبی (نفر سوم)، علیرضا صبور روح اقدم (نفر چهارم)