1404/02/01
حسن علم خواه

حسن علم خواه

مرتبه علمی: دانشیار
ارکید:
تحصیلات: دکترای تخصصی
اسکاپوس: 37461313500
دانشکده: دانشکده فنی و مهندسی
نشانی: همدان، دانشگاه بوعلی سینا، دانشکده مهندسی
تلفن: 08138290823

مشخصات پژوهش

عنوان
تاثیر تعداد جفت لایه بر رفتار الکتروشیمیایی پوشش چندلایه نانوساختار CrN/ZrN روی فولاد زنگنزن 304در محیط 3/5درصد وزنی کلریدسدیم
نوع پژوهش
مقاله ارائه شده کنفرانسی
کلیدواژه‌ها
پوشش نانوساختار PVD
سال 1399
پژوهشگران پرویز محمدیان صمیم ، آرش فتاح الحسینی ، حسن علم خواه ، امید ایمان طلب

چکیده

تحقیق حاضر با هدف بررسی اثر تعداد جفت لایه بر رفتار الکتروشیمیایی پوشش نانوساختار CrN/ZrN ایجادشده با روش رسوب فیزیکی از فاز بخار با کمک قوس کاتدی CAE-PVD روی فولاد زنگ نزن 304 صورت گرفت. به این منظور، پوششهای نانوساختار چندلایهای CrN/ZrNبا تعداد جفتلایههای متفاوت ( 20 ،10و )30 ایجاد شدند. رفتار الکتروشیمیایی نمونه های دارای پوشش با استفاده از آزمونهای طیف سنجی امپدانس الکتروشیمیایی ) (EISدر شرایط پتانسیل مدارباز و آزمون های پلاریزاسیون پتانسیودینایک در محیط 3/5درصد وزنی کلریدسدیم مورد ارزیابی قرار گرفت. سطح نمونه ها پس از آزمون الکتروشیمیایی با استفاده از تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی ( )FE-SEMمقایسه و بررسی شدند. نتایج حاصل از آزمونهای EISبیانگر آن بود که نمونه دارای پوشش با تعداد 30جفتلایه نسبت به دیگر نمونه ها مقاومت به پولاریزاسیون بالاتری از خود نشان دادهاست. همچنین، نتایج پلاریزاسیون پتانسیودینامیک نشان داد که با افزایش تعداد جفتلایه، چگالی جریان خوردگی کاهش می یابد. همچنین، تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی نشان دادند که تعداد حفرههای تشکیلشده سطحی مربوط به نمونهها با افزایش تعداد جفت لایه کاهش پیدا کردهاست که بر افزایش مقاومت به پلاریزاسیون موثر است