صادق خزل پور

دراین پایان نامه برای اولین بار به مطالعه رفتارالکتروشیمیایی ماده 5،3-دی نیتروسالسیلیک اسید در pHهای مختلف با استفاده از تکنیک‌های ولتامتری‌چرخه‌ای(CV) ، ولتامتری پالسی تفاضلی(DPV) و کرونوآمپرومتری پرداخته شد. سپس با استفاده از تکنیک کرونوآمپرومتری ضریب نفوذ (D)محاسبه گردید. اکسایش الکتروشیمیایی 5،3-دی‌نیتروسالیسیلیک اسید با استفاده ازتکنیک کولومتری در پتانسیل کنترل شده (CPC) انجام شد. نتایج حاصل از کولومتری نشان داد ماده 5،3-دی‌نیتروسالیسیلیک اسید با انتقال 10 الکترون و 10 پروتون در سطح الکترود کاهش می‌یابد سپس فرم کاهش یافته مورد حمله 5،3-دی‌نیتروسالیسیلیک اسید در محلول قرار می‌گیرد و منجر به تشکیل پیوندN-N می‌گردد و در نهایت با از دست دادن دو الکترون دو پروتون درسطح الکترود دیمر تشکیل شد. در ادامه رفتارکاهشی الکتروشیمیایی ماده 5،3-دی‌نیتروسالیسیلیک اسید درحضورهسته دوست پارا تولوئن سولفینیک اسید مورد مطالعه قرارگرفت. با استفاده از الکتروسنتززوجی با تنظیم گزینشی پتانسیل ماده5،3-دی‌نیتروسالیسیلیک اسید کاهش می‌یابد و منجر به تشکیل حد واسط نیتروآرن‌‌ها می‌شود و این حد واسط مورد حمله پارا تولوئن سولفینیک اسید قرار گرفته، که منجر به تشکیل پیوندN-S می‌شود در نهایت با از دست دادن دو الکترون و دو پروتون در سطح الکترود محصول نهایی، مشتق سولفونامید مربوطه تولید شد.