برای ایجاد نانو و لایه نشانی معمولا از دو فرآیند، یعنی لایه نشانی فرآیند فیزیکی و لایه نشانی فرآیند شیمیایی استفاده می شود که هر یک از این فرآیند ها به روشهای مختلفی انجام می شود. پوشش زیر لایه با فیلم های نازک فلزی اهمیت زیادی در فن آوری های معاصر نظیر پوشش های اپتیکی، حفاظت در برابر خوردگی، تجهیزات نیمه هادی و... دارد.خواص فیزیکی و مورفولوژی مواد به ویژه فلزات، در حالت نانو تفاوت بسیاری با خواص آن در حالت توده ای دارد و همچنین باز پخت لایه ها در دماهای مختلف باعث تغییراتی در این خواص می شود. در این پژوهش فیلم های نازک اکسید روی با ضخامت های 2700 و 8000 آنگستروم به وسیله ی عمل تبخیر با باریکه الکترونی در ﺧﻸ بالا ( Torr5- 10 ×5) بر روی زیر لایه های شیشه ای تخت نشانده شد و سپس در دماهای 300 و 600 درجه ی سلسیوس به مدت 1 و 2 ساعت در معرض هوا در کوره باز پخت شدند. برای اطمینان یافتن از ضخامت دقیق لایه های تهیه شده از روش پس پراکندگی رادرفورد (RBS) استفاده گردید. خواص فیزیکی، مورفولوژی و ساختاری آنها به صورت تابعی از دمای باز پخت به وسیله ی آنالیز طیف سنجی پراش پرتو ایکس(XRD)، بیناب سنجی فرابنفش–مرئی (UV-VIS)، تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی-گسیل میدانی (FE-SEM) مورد تجزیه و تحلیل قرار گرفت. نتایج بدست آمده حاکی از آن است که با افزایش دمای باز پخت نانو ذرات روی ایجاد می شوند و با افزایش دما به نانو میله ها تبدیل می شوند.همچنین طبق نتایج XRDپیک(101) نسبت به بقیه پیک ها رشد بیشتری داشته است.بیناب سنجی فرابنفش مرئی نشان می دهد که به علت ناهمواری سطح جذب و عبورنظم خاصی ندارند.
