مس به علت رفتار رویین عالی در محلول های خنثی و قلیایی و خاصیت آنتی باکتریال بودن آن، به طور گسترده در ساخت لوله های سیستم توزیع آب آشامیدنی و هم چنین در صنایع پتروشیمی مورد استفاده قرار می گیرد. اما در این میان وجود آنیون مخرب کلر می تواند باعث شکست لایه رویین و خوردگی آن شود. در این پژوهش، تاثیر افزودن کلرید سدیم بر مقاومت به خوردگی مس خالص تجاری در محلول 005/0 مولار بوراکس بررسی شد. برای این منظور در ابتدا الکترودهای کاری از جنس مس خالص تجاری به مدت کافی در محلول 005/0 مولار بوراکس (با و بدون کلرید سدیم) غوطه ور شدند و سپس آزمون های پلاریزاسیون پتانسیودینامیک انجام شد. نتایج حاصل از آزمون های پلاریزاسیون پتانسیودینامیک نشان داد که چگالی جریان خوردگی مس خالص تجاری در محلول 005/0 مولار بوراکس در حدود 595/0 میکرو آمپر بر سانتی-متر مربع است که با افزایش غلظت کلرید سدیم از 001/0 به 008/0 مولار از 761/0 به 106/1 میکرو آمپر بر سانتی متر مربع افزایش می یابد. آزمون های طیف سنجی امپدانس الکتروشیمیایی نشان داد که در منحنی های نایکویست، دو ثابت زمانی مربوط به تشکیل لایه رویین و لایه دوگانه الکتریکی به ترتیب در فرکانس های کم و زیاد وجود دارد. هم-چنین نتایج حاصل از این آزمون ها آشکار ساخت که افزایش غلظت کلرید سدیم باعث کاهش مقاومت لایه رویین و مقاومت انتقال بار و به تبع آن مقاومت پلاریزاسیون می شود.
