در این پژوهش تأثیرات غلظت هیدروکسید سدیم، پتانسیل تشکیل لایه رویین، غلظت یون کلر و زمان غوطه وری بر روی رفتار الکتروشیمیایی لایه رویین تشکیل شده بر فلز روی خالص بررسی شد. برای این منظور، آزمون های پتانسیل مدارباز، طیف سنجی امپدانس الکتروشیمیایی، پلاریزاسیون پتانسیودینامیک و موت- شاتکی انجام شد. سطوح لایه اکسیدی تشکیل شده با استفاده از تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی بررسی شد. نتایج تحقیق نشان داد که با افزایش غلظت هیدروکسید سدیم، پتانسیل تشکیل لایه رویین و غلظت یون کلر، سرعت خوردگی، چگالی جریان رویین شدن و غلظت حامل های بار، افزایش و مقاومت لایه رویین کاهش می یابد. هم چنین، نتایج نشان داد که با افزایش زمان تشکیل لایه رویین، سرعت خوردگی، چگالی جریان رویین شدن و غلظت حامل های بار کاهش و مقاومت لایه رویین افزایش می یابد. مشاهدات میکروسکوپی با نتایج آزمون های الکتروشیمیایی در انطباق است.
