در این تحقیق، تاثیر زبری سطح بر مقاومت به خوردگی مس خالص تجاری در محلول 1/0 مولار هیدروکسید پتاسیم بررسی شد. برای این منظور پس از غوطه-وری نمونه ها و اندازه گیری تغییرات پتانسیل مدار باز، آزمون های پلاریزاسیون پتانسیودینامیک و طیف سنجی امپدانس الکتروشیمیایی انجام شدند. تغییرات پتانسیل مدار باز مس خالص تجاری نشان داد که مقادیر پتانسیل مدار باز در محلول 1/0 مولار هیدروکسید پتاسیم تابعی از زبری سطح می باشد و با کاهش زبری سطح این مقادیر به سمت مثبت تر میل می کند که خود نشان دهنده بهبود مقاومت به خوردگی است. هم چنین منحنی های پلاریزاسیون پتانسیودینامیک نشان دادند که مقادیر چگالی جریان خوردگی و پتانسیل شکست لایه رویین تشکیل شده روی مس خالص تجاری در محلول 1/0 مولار هیدروکسید پتاسیم نیز تابعی از زبری سطح می باشد و با کاهش زبری سطح، مقادیر چگالی جریان خوردگی و پتانسیل شکست لایه رویین به ترتیب کاهش و افزایش می یابند که خود نشان-دهنده بهبود مقاومت به خوردگی است. نتایج آزمون های طیف سنجی امپدانس الکتروشیمیایی آشکار ساخت که کاهش زبری سطح از 41/0 به 12/0 میکرون باعث افزایش مقاومت پلاریزاسیون از 92/37 به 21/139 کیلو اهم سانتی متر مربع می شود. هم چنین نتایج آزمون های طیف سنجی امپدانس الکتروشیمیایی نشان داد که کاهش زبری سطح باعث افزایش n یا همان ضریب غیریک نواختی سطح نیز می گردد.
