مشخصات پژوهش

صفحه نخست /ساخت نانو سیم های بس لایه ای ...
عنوان ساخت نانو سیم های بس لایه ای بیسموت-تالیم با استفاده از روش رسوب گذاری الکتروشیمیایی در غشاء پلی کربنات
نوع پژوهش پایان‌نامه
کلیدواژه‌ها نانوسیم های بس لایه ای، رسوب گذاری الکتروشیمیایی، قالب پلی کربنات، بیسموت، تالیم
چکیده در این پروژه نانوسیم های فلزی Bi و Tl و نانوسیم های بس لایه ای Bi/Tl درون حفره های قالب پلی کربنات با قطر nm100 به روش رسوب گذاری الکتروشیمیایی تهیه شدند. رسوب گذاری الکتروشیمیایی به صورت پتانسیواستات و با استفاده از سیستم سه الکترودی انجام شد. رشد نانوسیم های Bi ، Tl و نانوسیم های بس لایه ای Bi/Tl، به ترتیب با استفاده از الکترولیتی حاوی نمک Bi، نمک Tl و سیستم دو حمامی حاوی نمک های Bi و Tl انجام گردید. پتانسیل بهینه اعمالی جهت رشد نانوسیم های Bi و Tl به ترتیب V1/0- وV8/0- مورد استفاده قرار گرفت. نمودار جریان - زمان رشد دو مرحله ای نانوسیم ها شامل جوانه زنی در انتهای حفره ها و شروع رشد نانوسیم ها درون حفره ها را بر روی قالب پلی کربنات بیان می کند. همچنین نانوسیم ها با استفاده از طیف پراش اشعه ی ایکس (XRD)، میکروسکوپ های الکترونی روبشی (SEM) و عبوری (TEM)، انرژی پراکنده شده اشعه ی ایکس (EDX)، پس پراکندگی رادرفورد (RBS) و انتشار اشعه ی ایکس القایی (PIXE) مورد مطالعه و بررسی قرار گرفتند. طیف XRD نشان داد که ساختار کریستالی نانوسیم بیسموت، ساختار رمبوهدرال است و نانوسیم تالیم، دارای ساختار هگزاگونال می باشد. با توجه به تصاویر TEM، قطر میانگین نانوسیم ها تعیین شد. طول نانوسیم ها توسط آنالیز RBS و غلظت عناصر و درصد وزنی آنها توسط آنالیز PIXE مشخص شد.
پژوهشگران